Ingénieur introduisant des wafers de silicium dans un réacteur ALD. @Argonne National Labs

Fluorures et dépôt chimique en phase vapeur

Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l’anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs en phase gaz.

De nombreux fluorures liquides ou gazeux à température ambiante sont utilisés comme précurseurs de dépôts de couches minces, notamment dans le domaine des semi-conducteurs.
Lire la suite