F2, LE TIGRE DE LA CHIMIE

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Ingénieur introduisant des wafers de silicium dans un réacteur ALD. @Argonne National Labs
Ingénieur introduisant des wafers de silicium dans un réacteur ALD. @Argonne National Labs

Fluorures et dépôt chimique en phase vapeur

Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l’anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs en phase gaz. De nombreux fluorures liquides ou gazeux à température ambiante sont utilisés comme précurseurs de dépôts de couches minces, notamment dans le domaine des semi-conducteurs.

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BATTERIES 2016 Nice Acropolis - Sept 28-30, 2016

Frédéric Gillot

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SEMICON Europa Alpexpo Grenoble - Oct 25-27, 2016

Gérard Calleja

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